Titaniummål

Renhed
Purity is one of the main performance indicators of the target, because the purity of the target has a great influence on the performance of the film. However, in practical applications, the purity requirements for the target are not the same. For example, with the rapid development of the microelectronics industry, the silicon chip size has been developed from 6", 8" to 12", while the wiring width has been reduced Fra 0 . 5um til 0 . 25um, 0,18um eller endda 0,13um, og de foregående 99,995% målrenhed kan opfylde processen på 0,35umisk.
Urenhedsindhold
Urenheder i målfaststoffer og ilt- og vanddamp i porer er de vigtigste forureningskilder til deponerede film . Mål for forskellige formål har forskellige krav til forskellige urenhedsindhold . for eksempel rent aluminium og aluminium til allegering, der bruges i semikledorindustrien, har særlige krav til alkali metal indhold og radioaktivt element .}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}}
Densitet
In order to reduce the porosity in the target solid and improve the performance of the sputtered film, the target is usually required to have a high density. The density of the target not only affects the sputtering rate, but also affects the electrical and optical properties of the film. The higher the density of the target material, the better the performance of the film. In addition, increasing the Målets densitet og styrke gør målet bedre i stand til at modstå den termiske stress under sputtering . densitet er også et af de vigtigste ydelsesindeks for målmaterialet .